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蒸發鍍膜設備—產品對比速覽

發布時間:2020-06-18

①性能參數


設備型號

工作溫度

升溫速率

控溫精度

功率

產品特點

OTF-1200X-RTP-II-5-R

最高800℃

≤10℃/min

±1℃

10KW

1、頂部載樣臺轉速可調0-10rpm

2、導熱率較高的氮化鋁陶瓷片作為載樣臺

3、兩樣品臺距離可控

GSL-1700X-SPC-2

最高1700℃

0.3℃/S(≤1200℃)   0.15℃/S(1200-1500℃)

±1℃


1、樣品臺可以旋轉

2、樣品臺和蒸發源之間的距離可以調節

GSL-1350X-ISE

1200℃(連續)1350℃(<1h)

≤30℃/min

±1℃


可插式蒸發儀

GSL-1700X-EV4

最高1700℃


±1℃

1.2KW

1、四個蒸發坩堝可依次蒸發

2、Φ50樣品臺與蒸發源距離可調節

GSL-1800X-ZF4




10KW

獨立蒸鍍控制器

OTF-1200X-PLD

最高1200℃



1.2KW

1、可與準分子激光器配合進行PLD

制膜

2、腔體內部可安裝多塊靶材





②外形參數


設備型號

加熱元件

爐管尺寸及材料

外形尺寸

重量

OTF-1200X-RTP-II-5-R

紅外燈管


790×600×1100mm


GSL-1700X-SPC-2

鎢絲籃

石英腔體:

167 OD x 152ID x 260mmH

440×330×630mm

40kg

GSL-1350X-ISE

鎢絲




GSL-1700X-EV4

鎢絲籃

石英腔體:

280 OD x 260 ID x310mmH

550×550×750mmH

80kg

GSL-1800X-ZF4


不銹鋼腔體:

Φ300×400mmH

650×1200×1600mmH

600kg

OTF-1200X-PLD

摻鉬鐵鉻鋁

高純石英腔體

1300×1260×820mm



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